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リモートセンシング用のグラフェンベースのフォトニクスデバイス

現在、超高速レーザーパルスを受動的に生成する主な方法は、半導体可飽和吸収鏡(SESAM)を使用することです。このタイプのパッシブモードロッカーは例外的な結果をもたらしますが、製造が難しく、高価で、帯域幅が制限されています。対照的に、グラフェンベースの可飽和吸収体は製造が容易であり、帯域幅がはるかに広く、飽和強度が低く、変調深度が調整可能で、回復時間が非常に速く、光学的損傷しきい値がはるかに高いため、エネルギーが高くなるという利点があります。

グラフェンを適切な光基板や光ファイバーの先端に転写するプロセスは、低圧化学蒸着(LPCVD)技術を使用して大面積グラフェンを成長させることによって開発されました。さらに、同じ基板上に複数のグラフェン層を堆積するための2番目のプロセスが開発されました。これらの新しいプロセスを使用して、エンジニアは単層および多層グラフェンで可飽和吸収体を製造するプロセスを開発しました。

レーザー送信機用のグラフェンベースのモードロックデバイスの開発において、可飽和吸収体としてグラフェンを使用して、数百MHzのオーダーの繰り返し率を持つ高エネルギー(10s nJ)およびフェムト秒パルスが実証されています。この研究は、他の新しいフォトニクスデバイスの開発にもつながりました。レーザー送信機としての用途の他に、可飽和吸収体はスケーラブルなグラフェンベースのボロメータとして使用できます。

NASAは、この技術を商業化するためのライセンシーを積極的に探しています。 NASAのライセンスコンシェルジュに連絡してください。このメールアドレスはスパムボットから保護されています。表示するにはJavaScriptを有効にする必要があります。または、202-358-7432に電話して、ライセンスに関する話し合いを開始してください。こちらのリンクをたどってください 詳細については。


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