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絶縁ゲート電界効果トランジスタの紹介

前の章で述べたように、電界効果トランジスタには複数のタイプがあります。接合型電界効果トランジスタ(JFET)は、逆バイアスされたPN接合に印加される電圧を使用して、その接合の空乏領域の幅を制御します。これにより、制御された電流が流れる半導体チャネルの導電率が制御されます。別のタイプの電界効果デバイス(絶縁ゲート電界効果トランジスタ(IGFET))は、半導体チャネルを介した導電性を制御する空乏領域の同様の原理を利用しますが、主にJFETとは異なり、ゲートリードと半導体材料自体。むしろ、ゲートリードは薄いバリアによってトランジスタ本体から絶縁されているため、絶縁ゲートと呼ばれます。この絶縁バリアはコンデンサの誘電体層として機能し、ゲートからソースへの電圧が直接接続ではなく静電的に空乏領域に影響を与えることを可能にします。

NチャネルとPチャネルの設計の選択に加えて、IGFETには、拡張と枯渇という2つの主要なタイプがあります。枯渇タイプはJFETとより密接に関連しているため、それを使用してIGFETの研究を開始します。

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