化学気相成長（CVD）解説：プロセス、種類、主な利点

概要 グラフェンへの長年の関心は、グラフェンハイドロゲル、グラフェンファイバー、グラフェンペーパーなどグラフェン派生材料への注目を集めている。これらは力学的・物理的に優れた特性を示す。本研究では、化学気相成長（CVD）法により、SiO₂/Si基板上に樹木枝状（デンドライト）グラフェンを初めて合成した。メタンと水素を前駆体として用い、Si面およびSiO₂面の両方に、良好に制御されたモルフォロジーを持つ樹木枝状グラフェンデンドライトを直接成長させた。成長したグラフェンデンドライトは電子デバイス作製に直接使用可能。電気伝導度〜286 S cm⁻¹、ホール移動度〜574 cm² V⁻¹ s⁻¹、ヤング

材料へのコーティング適用は、その特性を改善するために産業で最も使用される戦略の一つです。コーティングの堆積により、摩擦摩耗（トライボロジー）的観点から美観的観点まで、材料の幅広い特性を改善できます。 本ブログでは、コーティング適用において大きな可能性を持つ技術、物理気相成長（PVD：Physical Vapor Deposition）を紹介します。 物理気相成長（PVD）とは 物理気相成長（PVD）の起源は、電気、磁気、気体状態の化学知識の組み合わせから生まれました。 PVDの概念は、真空雰囲気でのコーティング適用が台頭した時期に生まれました。この時期、スパッタリングやプラズマなどの技術でさま

ケミカルマシニングとは？ ケミカルマシニングは、フォトケミカルプロセスにより、予め定義された領域から金属を清浄に除去し、金属の完全性や特性を変えることなく加工する方法です。このプロセスは主に、焼けや応力のない複雑な設計の小型薄肉金属部品の製造に使用されます。 ケミカルマシニングは、フォトケミカルプロセスにより、予め定義された領域から金属を清浄に除去し、金属の完全性や特性を変えることなく加工する方法です。このプロセスは主に、焼けや応力のない複雑な設計の小型薄肉金属部品の製造に使用されます。 プロセスは、金属から汚れや油分を洗浄することから始まります。フォトレジストを塗布し焼き付けて均一な塗布を確

ポンプ設計・選定・性能計算において、記号「N」は頻繁に登場する重要なパラメータです。しかし、文脈によって「回転数」「段数」「比速度」等、異なる物理量を表すため、混同しやすいポイントでもあります。本記事では、ポンプ技術者が押さえるべき「N」の定義と実用的意味を整理します。 「N」が表す主な物理量 記号正式名称単位定義・意味主な用途 N回転速度 / 回転数min⁻¹ (rpm)ポンプ軸の単位時間当たり回転数性能曲線、動力計算、アフィニティ則、キャビテーション判定 n段数 / インペラ段数－（段）直列接続されたインペラ/ローターの数多段ポンプ全揚程計算、各段揚程分配 Nₛ / Nq比速度 / 比流