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Al前堆積とMBEにおけるGa/N比によるSi(111)上のGaN形態制御

要旨

Ga/N比の調整と短時間のAl前堆積の導入により、プラズマ支援分子線エピタキシー(PA-MBE)を用いてSi(111)上でのGaN成長モード(ナノカラム、ナノウォールネットワーク、致密膜)を精密に制御しました。裸のSi上ではNリッチ条件下でGaNナノカラムが形成され、より高いGaフラックスで致密なコンパクト膜が得られました。特筆すべきは、GaN成長前に40秒間のAl前堆積を行うことで、連続的な面内ナノウォールネットワークが形成されたことです。原子間力顕微鏡により、Alが約80 nmの液滴(高さ約6.7 nm)を形成することが明らかになりました。GaNは裸のSi上で核生成するが、Al液滴上では成長が抑制されるという成長モデルを提案し、この特徴的なネットワーク形成を説明します。このアプローチはナノデバイス製造の障壁を取り除き、シリコン上への高品質GaNナノ構造のスケーラブルな製造ルートを実証します。

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